ParyleneF是苯环上的4个H原子被F取代,ParyleneF拥有ParyleneHT的耐紫外线,耐高温等优势,派瑞林HT由于其生产工艺的限制,制备效率很低,而ParyleneF则相对来说更具有商业价值。
Parylene F长期使用的温度建议200℃,比parylene C粉和N粉的耐温明显高很多,所以有耐高温要求的产品建议使用parylene F粉镀膜,如测试高温的传感器,在高温环境中工作的机械部件等。
派瑞林F粉是所有派瑞林原料家族中能耐温的一款原料,长期可耐200℃高温,短期可耐高温380℃。可满足很多在高温环境下工作的产品镀膜需求。因其有耐高温的性能,避免LED产品长期工作时出现的表面发黑,严重光衰,颜色漂移等现象的发生。
Parylene F也叫 VT4粉,是国内新研发出来的一种具有耐高温、抗紫外线功能的原料。
Parylene F的成膜原理
与其它Parylene原料类似,Parylene F薄膜的制备需在的真空涂覆设备上进行,设备主要由升华炉、裂解炉、沉积腔室、冷阱和真空系统几部分组成。成膜过程也包括如下3个步骤:
(1)固体环二体在一定温度下升华为气态环二体;
(2)在较高温度下气态环二体裂解为活性单体自由基;
(3)单体自由基进入沉积腔室后,在基体表面沉积聚合形成均匀无针孔并与物体形状一致的Parylene F薄
Parylene F在耐高温、抗紫外等方面具有较强的优势,很好地弥补了传统Parylene材料的缺陷。此外,Parylene F也具有传统Parylene材料的防水和电绝缘等优良性能,可以应用到器械、汽车、马达开关、可穿戴设备以及具有高附加值的LED上,是一种应用前景非常广泛的材料。
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