徐州优质**派瑞林F粉价格 C16H8F8

Parylene F的成膜原理
与其它Parylene原料类似，Parylene F薄膜的制备需在的真空涂覆设备上进行，设备主要由升华炉、裂解炉、沉积腔室、冷阱和真空系统几部分组成。成膜过程也包括如下3个步骤：
(1)固体环二体在一定温度下升华为气态环二体；
(2)在较高温度下气态环二体裂解为活性单体自由基；
(3)单体自由基进入沉积腔室后，在基体表面沉积聚合形成均匀无针孔并与物体形状一致的Parylene F薄

派瑞林F粉即Parylene F粉，(派瑞林F二聚体,八氟对二二聚体)CAS: 1785-64-4, MF:C16H8F8, MW: 352.22, 是含氟的高分子涂层材料.膜层具有高通透性,厚度均匀,耐酸碱, 介电特性好,光电和医疗器械等领域都有着广泛的应用。ParyleneF是苯环上的4个H原子被F取代,ParyleneF拥有ParyleneHT的耐紫外线，耐高温等优势。

Parylene N，聚对二甲苯。将二甲基中的一个氢原子用一个氯原子所取代，就得到Parylene C；将其中两个芳香烃氢原子被氯原子取代，就得到Parylene D；苯环上的4个氢原子被氟取代，即可得Parylene F；而将二甲基上的H原子替换为F原子，就得到HT型Parylene。

派瑞林parylene F粉的阻隔性为35g/m2.day