派瑞林parylene F粉的阻隔性为35g/m2.day
Parylene F的成膜原理
与其它Parylene原料类似,Parylene F薄膜的制备需在的真空涂覆设备上进行,设备主要由升华炉、裂解炉、沉积腔室、冷阱和真空系统几部分组成。成膜过程也包括如下3个步骤:
(1)固体环二体在一定温度下升华为气态环二体;
(2)在较高温度下气态环二体裂解为活性单体自由基;
(3)单体自由基进入沉积腔室后,在基体表面沉积聚合形成均匀无针孔并与物体形状一致的Parylene F薄
派瑞林F粉镀膜的产品使用寿命,在无外界硬力下连续使用五年
派瑞林F的表面电阻为4.7*1017
派瑞林parylene F粉的拉伸模量为3.0Gpa
派瑞林parylene F粉的抗屈强度为52Mpa
派瑞林parylene F粉的延长率为5%
派瑞林parylene F粉的断裂延长率为10-50%
派瑞林parylene F粉的阻隔性为35g/m2.day
Parylene F在耐高温、抗紫外等方面具有较强的优势,很好地弥补了传统Parylene材料的缺陷。此外,Parylene F也具有传统Parylene材料的防水和电绝缘等优良性能,可以应用到医疗器械、汽车、马达开关、可穿戴设备以及具有高附加值的LED上,是一种应用前景非常广泛的材料。