滁州钕铁硼防锈耐腐蚀派瑞林涂层电话 工艺稳定

派瑞林涂层的镀膜方式为气相沉积CVD，沉积过程过程主要有三步：
1. 真空130℃条件下固态派瑞林材料升华成气态。
2. 真空680℃条件下，将气态双裂解成活性单体。
3. 真空常温下，气态单体在基体上生长聚合。
上述过程中裂解后的活性单体为纳米级小分子颗粒，单体重新聚合而形成的膜非常致密，有较低的水汽透过率，可起到更好的阻隔水氧的作用。经派瑞林涂敷后的电子产品即便在有腐蚀性的环境中工作，也能够有效的阻隔，真正意义上完成对电子产品的防腐蚀效果。
聚对二甲苯涂覆过程为气相沉积即CVD的镀膜方式

帕利灵C在温度300K时太赫兹频段的折射率大约为1.62，4.5K时降低到约1.5141。吸收系数约为数10cm-1量级。帕利灵C的这些特性使之成为硅、锗材质的透镜和窗口的合适的抗反镀膜材料。

聚对二甲苯膜用作电绝缘层、化学防护层、保护层和密封层是十分理想的。聚对二甲苯已用来做微流控沟道、阀门和传感器(加速度传感器，压力传感器，麦克风和切应力传感器)。通常采用控制二聚物的量来调控聚对二甲苯覆盖层的厚度。在原位探测聚对二甲苯厚度的器与末端探测器已经研制出来。

聚对二甲苯在工艺过程中无排放无污染，顺应国家环保政策的环保型材料
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